Официальный дистрибьютор CBVAC в РФ и странах Таможенного Союза АО «ЛЛС» предлагает наиболее выгодные условия поставки продукции CBVAC, полную техническую поддержку, а также поставку образцов.
Турбомолекулярный насос CBVAC MTP-4301 с магнитным подвесом предназначен для создания высокого и сверхвысокого вакуума в высокопроизводительных технологических установках, полупроводниковом оборудовании и промышленных вакуумных системах.
Насос относится к серии комбинированных молекулярных насосов MTP и оснащён магнитным подвесом ротора и интегрированным контроллером. Конструкция обеспечивает высокую скорость откачки, стабильность работы и возможность интеграции в автоматизированные технологические линии.
Скорость откачки MTP-4301 составляет 4000 л/с по азоту и 2700 л/с по гелию. Коэффициент сжатия по азоту превышает 10⁸, а предельное остаточное давление после прогрева составляет 1 × 10⁻⁷ Па.
Насос оснащён системой водяного охлаждения, поддерживает монтаж в любом пространственном положении и предусматривает возможность продувки азотом.
Полупроводниковое исполнение предназначено для осаждения тонких плёнок, травления и ионной имплантации. Поддерживается система температурного регулирования TMS.
Промышленное исполнение применяется в производстве плоских дисплеев, вакуумном нанесении покрытий, процессах PECVD, термообработке материалов и научных исследованиях.
Возможность использования промышленных протоколов связи позволяет интегрировать MTP-4301 в автоматизированные системы управления вакуумным оборудованием.
Ключевые особенности
- Магнитный подвес ротора для стабильной высокоскоростной работы.
- Высокая скорость откачки по азоту — 4000 л/с.
- Высокий коэффициент сжатия по азоту — более 10⁸.
- Предельное остаточное давление 10⁻⁷ Па после прогрева.
- Интегрированный контроллер для управления насосом.
- Возможность монтажа в любом пространственном положении.
- Водяное охлаждение для поддержания рабочего температурного режима.
- Возможность продувки азотом через опциональный патрубок KF10.
- Поддержка дистанционного управления и промышленных протоколов связи.
- Поддержка температурного регулирования TMS в полупроводниковом исполнении.
- Возможность выбора антикоррозионной конфигурации для агрессивных технологических процессов.
|
Модель
|
MTP-4301 |
|
Тип насоса
|
Комбинированный турбомолекулярный насос с магнитным подвесом |
|
Исполнения
|
Полупроводниковое / промышленное |
|
Фланец входного патрубка
|
ISO320F |
|
Опциональные входные фланцы
|
VG350 / VG400 |
|
Фланец выходного патрубка
|
KF40 |
|
Скорость откачки по азоту (N₂)
|
4000 л/с |
|
Скорость откачки по гелию (He)
|
2700 л/с |
|
Коэффициент сжатия по азоту (N₂)
|
> 10⁸ |
|
Коэффициент сжатия по гелию (He)
|
> 1,0 × 10³ |
|
Предельное остаточное давление после прогрева
|
10⁻⁷ Па |
|
Максимальное непрерывное форвакуумное давление — полупроводниковое исполнение (TMS включена)
|
260 Па |
|
Максимальное непрерывное форвакуумное давление — промышленное исполнение
|
320 Па |
|
Фланец продувочного патрубка (опция)
|
KF10 |
|
Расход продувочного азота
|
50 ± 10 sccm |
|
Номинальная частота вращения ротора
|
24 240 об/мин |
|
Минимальная частота вращения для поддержания работы при сбое питания
|
Около 5000 об/мин |
|
Время разгона
|
≤ 11 мин |
|
Время остановки
|
≤ 19 мин |
|
Уровень шума
|
< 55 дБ при 24 240 об/мин |
|
Система температурного регулирования TMS
|
Поддерживается в полупроводниковом исполнении |
|
Температура прогрева входного фланца
|
< 120 °C |
|
Монтажное положение
|
Любое |
|
Способ охлаждения
|
Водяное |
|
Расход охлаждающей воды
|
2–4 л/мин |
|
Рекомендуемая температура охлаждающей воды
|
15–35 °C |
|
Давление охлаждающей воды
|
0,3–0,5 МПа |
|
Масса
|
111 кг |
|
Быстрота откачки форвакуумного насоса
|
> 1300 л/мин |
|
Степень защиты
|
IP54 |
|
Температура окружающей среды при эксплуатации
|
0–40 °C |
|
Температура хранения
|
−25…+55 °C |
|
Электропитание
|
Однофазное, 176–264 В переменного тока |
|
Максимальная входная мощность — полупроводниковое исполнение (TMS включена)
|
2200 Вт |
|
Максимальная входная мощность — промышленное исполнение
|
1700 Вт |
|
Стандартные интерфейсы связи и управления
|
REMOTE I/O, RS232/485, RS485 |
|
Опциональные протоколы связи
|
Profibus, EtherCAT |
Полупроводниковое исполнение:
- Осаждение тонких плёнок.
- Технологические процессы травления.
- Ионная имплантация.
Промышленное исполнение:
- Производство плоских дисплеев.
- Плазмохимическое осаждение из газовой фазы (PECVD).
- Вакуумное нанесение покрытий в фотоэлектрической промышленности.
- Рулонное вакуумное нанесение покрытий.
- Термическая обработка материалов.
- Материаловедение.
- Научно-исследовательские работы.
Нужна консультация?
Бесплатная консультация инженера