Официальный дистрибьютор CBVAC в РФ и странах Таможенного Союза АО «ЛЛС» предлагает наиболее выгодные условия поставки продукции CBVAC, полную техническую поддержку, а также поставку образцов.
Турбомолекулярный насос CBVAC MTP-3201 с магнитным подвесом предназначен для создания высокого и сверхвысокого вакуума в полупроводниковом производстве, промышленном вакуумном оборудовании и научно-исследовательских установках.
Насос серии MTP оснащён магнитным подвесом ротора и интегрированным контроллером, обеспечивающим управление работой насосного агрегата. Конструкция характеризуется высокой скоростью откачки, стабильностью работы и удобством интеграции в технологическое оборудование.
Скорость откачки модели MTP-3201 составляет 3200 л/с по азоту и 2300 л/с по гелию. Предельное остаточное давление после прогрева составляет 1 × 10⁻⁷ Па, а коэффициент сжатия по азоту превышает 10⁸.
Насос оснащён водяным охлаждением и допускает монтаж в любом пространственном положении. Для подключения к системам автоматизированного управления предусмотрены стандартные интерфейсы связи и опциональные промышленные протоколы.
Полупроводниковое исполнение применяется в процессах осаждения тонких плёнок, травления и ионной имплантации. Поддерживается система температурного регулирования TMS.
Промышленное исполнение предназначено для производства плоских дисплеев, процессов PECVD, вакуумного нанесения покрытий, термической обработки материалов и научно-исследовательских задач.
Ключевые особенности
- Магнитный подвес ротора, обеспечивающий стабильную работу насоса.
- Скорость откачки по азоту — 3200 л/с.
- Предельное остаточное давление 10⁻⁷ Па после прогрева.
- Интегрированный контроллер для управления работой насоса.
- Высокий коэффициент сжатия по азоту — более 10⁸.
- Возможность установки в любом пространственном положении.
- Водяное охлаждение для поддержания температурного режима.
- Опциональная продувка азотом через патрубок KF10.
- Интерфейсы дистанционного управления и промышленные протоколы связи.
- Поддержка температурного регулирования TMS в полупроводниковом исполнении.
- Возможность выбора конфигурации для агрессивных технологических процессов.
|
Модель
|
MTP-3201 |
|
Тип насоса
|
Комбинированный турбомолекулярный насос с магнитным подвесом |
|
Исполнения
|
Полупроводниковое / промышленное |
|
Фланец входного патрубка
|
ISO320F |
|
Опциональные входные фланцы
|
ISO250F / VG350 |
|
Фланец выходного патрубка
|
KF40 |
|
Скорость откачки по азоту (N₂)
|
3200 л/с |
|
Скорость откачки по гелию (He)
|
2300 л/с |
|
Коэффициент сжатия по азоту (N₂)
|
> 10⁸ |
|
Коэффициент сжатия по гелию (He)
|
> 2,0 × 10³ |
|
Предельное остаточное давление после прогрева
|
10⁻⁷ Па |
|
Максимальное непрерывное форвакуумное давление — полупроводниковое исполнение (TMS включена)
|
260 Па |
|
Максимальное непрерывное форвакуумное давление — промышленное исполнение
|
320 Па |
|
Фланец продувочного патрубка (опция)
|
KF10 |
|
Расход продувочного азота
|
50 ± 10 sccm |
|
Номинальная частота вращения ротора
|
27 720 об/мин |
|
Минимальная частота вращения для поддержания работы при сбое питания
|
Около 5000 об/мин |
|
Время разгона
|
≤ 10 мин |
|
Время остановки
|
≤ 16 мин |
|
Уровень шума
|
< 55 дБ при 27 720 об/мин |
|
Система температурного регулирования TMS
|
Поддерживается в полупроводниковом исполнении |
|
Температура прогрева входного фланца
|
< 120 °C |
|
Монтажное положение
|
Любое |
|
Способ охлаждения
|
Водяное |
|
Расход охлаждающей воды
|
2–4 л/мин |
|
Рекомендуемая температура охлаждающей воды
|
15–35 °C |
|
Давление охлаждающей воды
|
0,3–0,5 МПа |
|
Масса
|
84 кг |
|
Быстрота откачки форвакуумного насоса
|
> 1300 л/мин |
|
Степень защиты
|
IP54 |
|
Температура окружающей среды при эксплуатации
|
0–40 °C |
|
Температура хранения
|
−25…+55 °C |
|
Электропитание
|
Однофазное, 176–264 В переменного тока |
|
Максимальная входная мощность — полупроводниковое исполнение (TMS включена)
|
1800 Вт |
|
Максимальная входная мощность — промышленное исполнение
|
1500 Вт |
|
Стандартные интерфейсы связи и управления
|
REMOTE I/O, RS232/485, RS485 |
|
Опциональные протоколы связи
|
Profibus, EtherCAT |
Полупроводниковое исполнение:
- Осаждение тонких плёнок.
- Технологические процессы травления.
- Ионная имплантация.
Промышленное исполнение:
- Производство плоских дисплеев.
- Плазмохимическое осаждение из газовой фазы (PECVD).
- Вакуумное нанесение покрытий в фотоэлектрической промышленности.
- Рулонное вакуумное нанесение покрытий.
- Термическая обработка материалов.
- Материаловедение.
- Научно-исследовательские работы.
Нужна консультация?
Бесплатная консультация инженера