Система
сверхбыстрой лазерной микро- и нанообработки на основе фемтосекундного
источника излучения.
Подробности
Энергия импульса—>30 мкДж
- >30 мкДж
Частота следования импульсов—1-40 МГц
- 1-40 МГц
Длительность импульса—<300 фс
- <300 фс
Средняя мощность—>30 Вт
- >30 Вт
В корзину
Быстрый заказ
Характеристики
Минимальный размер элемента XY
—
100 нм
Минимальный размер элемента Z
—
350 нм
Минимальное значение шероховатости поверхности
—
10 нм
Максимальная скорость сканирования
—
80000 мм/с
Длина волны излучения
—
1030/515 нм
Средняя мощность излучения
—
>30 Вт
Энергия импульса
—
>30 мкДж
Частота следования импульсов
—
1-40 МГц
Длительность импульса
—
<300фс
Пусконаладка и обучение персонала
Доступен лизинг, кредит, рассрочка
Подберем оборудование под ваши задачи
Гарантийное и постгарантийное обслуживание без привлечения производителя
Бесплатная доставка
Система сверхбыстрой лазерной микро- и нанообработки на основе фемтосекундного источника излучения.
Ключевые особенности:
- Двухволновая фемтосекундная лазерная система
- Высокоэнергетические фемтосекундные лазерные импульсы
- Минимальный размер элемента ≤ 100нм
- Высокая скорость обработки до 80000 мм/с
- Система стабилизации энергии импульса
АО «ЛЛС» предлагает наиболее выгодные условия поставки продукции, полную техническую поддержку.
Документы
- обработка оптического волокна или фотонных чипов для исследовательского и промышленного секторов
- производство микро-нано устройств для оптоволоконного сенсинга
- производство микрооптических устройств для медицинских инструментов