Российское производствоЭксклюзивный дистрибьютор ООО «Нордлэйз» в РФ и странах Таможенного Союза АО «ЛЛС» предлагает наиболее выгодные условия поставки продукции ООО «Нордлэйз», полную техническую поддержку, а также поставку образцов.
Мультиволновая фемтосекундная лазерная система обеспечивает лазерное воздействие на образец в соответствии с заданным режимом работы, позволяя задавать энергетические, поляризационные и временные параметры лазерного излучения. Установка предназначена для микрообработки плоских заготовок диаметром до 250 мм из любых типов материалов: кварцевое стекло, сапфир, керамика, сталь, золото и другие. Может быть дооснащена модулем обработки оптического волокна методами холодной лазерной абляции ультракороткими импульсами.
Ключевые особенности
- Мультиволновой фемтосекундный лазерный источник (343–1033 нм)
- Высокая пиковая мощность (до ГВт)
- Высокая плотность энергии воздействия (до кДж/см²)
- Минимальный размер элемента до 1 мкм
- Точность позиционирования образца до 1 мкм
- Гальвосканер для высокоскоростного позиционирования луча
- Система автофокусировки
- Система визуализации области обработки
- Управляющее ПО с графическим интерфейсом
- Вакуумный прижим заготовки
Программное обеспечение
- Регулировка мощности/энергии лазерного излучения, контроль частоты следования и длительности импульсов
- Управление положением образца, задание и настройка траекторий перемещения луча, возможность подгрузки траекторий из файла
- Визуализация зоны обработки с помощью видеокамер
- Привязка к объекту по реперным точкам и оценка геометрических размеров
- Логирование параметров системы в процессе эксплуатации
|
Длина волны
|
1033 ± 3 нм, 345 ± 1 нм |
|
Длительность импульса
|
240 фс – 8 пс |
|
Частота следования импульсов
|
10 кГц – 1000 кГц |
|
Максимальная энергия в импульсе
|
2 мДж @ 1030 нм |
|
Качество пучка, M²
|
< 1,3 |
|
Стабильность мощности (8 ч, RMS)
|
< 0,5 % |
|
Разрешение камеры
|
2048 × 1088 пикселей |
|
Диаметр пятна в фокусе (@ 345 нм)
|
2,5 ± 1 мкм |
|
Диапазон перемещений XY
|
до 600 × 600 мм |
|
Диапазон перемещений Z
|
до 300 мм |
|
Точность позиционирования
|
до ±1 мкм |
|
Разрешение позиционирования
|
до 25 нм |
