№:
Microlab
Характеристики
Источник излучения
—
LED 405 нм, 960 мВт (Microlab-D, I) / LD 405 нм, 150 мВт (Microlab-II, III) / LED 405 нм, 960 мВт (Microlab-III) / DPSS лазер 355 нм, 800 мВт (Microlab-IV) / LD 375 нм, 1 Вт (Microlab-V)
Оптика
—
Числовая апертура NA=0.45, NA=0.8
DMD-матрица
—
0,55 дюйма (Microlab-D) / 0,95 дюйма, 1920×1080 пикселей
Мин. размер элемента
—
0,5 мкм
Мин. расстояние между линиями
—
0,5 мкм
Диапазон автофокусировки
—
0-200 мкм
Размер подложки
—
5 × 5 мм – 100 × 100 мм (Опционально 150 × 150 мм) (Microlab-D, I, II) / 5 × 5 мм – 150 × 150 мм (Опционально 200 × 200 мм)
Поддерживаемые форматы
—
GDS, BMP, STL
3D-литография
—
Возможна
Точность совмещения
—
± 0,5 мкм@5 × 5 мм; ± 1 мкм@50 × 50 мм
Все характеристики
Пусконаладка и обучение персонала
Доступен лизинг, кредит, рассрочка
Подберем оборудование под ваши задачи
Гарантийное и постгарантийное обслуживание без привлечения производителя
Бесплатная доставка
Microlab – это многофункциональная система прямой записи для создания микро- и наноструктур. Оборудование подходит для научно-исследовательских задач и мелкосерийного производства, обеспечивая высокую гибкость при работе с различными типами подложек.
Ключевые особенности
- Различные варианты источников: 405 нм LED, 405 нм LD, 355 нм DPSS
- Поддержка подложек размером от 4 до 6 дюймов (опционально до 8 дюймов)
- Пространственный модулятор света (DMD) с высокой частотой обновления для безмасочной записи
- Автофокусировка
- 3D-литография, интерференционная литография, поляризационная литография
- Многорежимное экспонирование (сканирование, пошаговое экспонирование)
- Многозадачная автоматическая работа
- Поддержка форматов файлов: GDSII, BMP, STL и другие
Документы
|
Источник излучения
|
LED 405 нм, 960 мВт (Microlab-D, I) / LD 405 нм, 150 мВт (Microlab-II, III) / LED 405 нм, 960 мВт (Microlab-III) / DPSS лазер 355 нм, 800 мВт (Microlab-IV) / LD 375 нм, 1 Вт (Microlab-V) |
|
Оптика
|
Числовая апертура NA=0.45, NA=0.8 |
|
DMD-матрица
|
0,55 дюйма (Microlab-D) / 0,95 дюйма, 1920×1080 пикселей |
|
Мин. размер элемента
|
0,5 мкм |
|
Мин. расстояние между линиями
|
0,5 мкм |
|
Диапазон автофокусировки
|
0-200 мкм |
|
Размер подложки
|
5 × 5 мм – 100 × 100 мм (Опционально 150 × 150 мм) (Microlab-D, I, II) / 5 × 5 мм – 150 × 150 мм (Опционально 200 × 200 мм) |
|
Поддерживаемые форматы
|
GDS, BMP, STL |
|
3D-литография
|
Возможна |
|
Точность совмещения
|
± 0,5 мкм@5 × 5 мм; ± 1 мкм@50 × 50 мм |
|
Количество оттенков серого
|
256 |
|
Числовая апертура
|
0,45 0,8 / 0,45 0,8 / 0,45 0,8 / 0,45 0,8 / 0,45 0,8 / 0,45 0,8 |
|
Равномерность критического размера
|
250 100 / 250 100 / 200 80 / 200 80 / 180 70 / 200 80 |
|
Скорость записи, мм2/мин
|
100 25 / 100 25 / 250 75 / 250 75 / 300 75 / 250 75 |
|
Шероховатость края
|
20 нм |
|
Габариты, вес и мощность
|
1250 × 910 × 1790 мм; 850 кг; 1 кВт и 1280 × 1100 × 1860 мм; 950 кг; 1,2 кВт |
- Микро-нано оптика
- Фотонные интегральные схемы (оптические волноводы, кольцевые резонаторы, решетки)
- МЭМС (микроэлектромеханические системы)
- Полупроводниковые приборы
- Корпусирование компонентов
- Печатные платы
- Голография и защита от подделок
- Биомедицина
- Научные исследования
Нужна консультация?
Бесплатная консультация инженера
Задать вопрос