Высокомощные решения

Подбор параметров
Производитель
Все
Система профилирования BeamCheck для аддитивного производства
Система профилирования BeamCheck для аддитивного производства Ophir
Длина волны
 1060-1080 нм
Фокальный размер пятна
 37 мкм - 3.5 мм
Диапазон мощности
 0.1-600 Вт
Плотность мощности
  до >3 МВт/см²
Фокусное расстояние
  200 - 400 мм
Система профилирования луча для аддитивного производства
Система профилирования BeamWatch AM
Система профилирования BeamWatch AM Ophir
Длина волны
1060 - 1080 нм
Мин. плотность мощности 
 1,5 МВт/см2 (пятно 50 мкм при 30 Вт)
Мин. фокусное пятно 
 50 мкм
Макс. диаметр пучка на вх/вых 
 6 мм (4,5 мм с использованием апертуры Halo)
Измеряемая мощность 
30 - 1000 Вт
Система профилирования пучка для систем аддитивного производства
Система профилирования BeamWatch Integrated для автоматизированного производства
Система профилирования BeamWatch Integrated для автоматизированного производства Ophir
Длина волны
980 - 1080 нм
Поле зрения камеры внутри блока 
 32,17 х 8,55 мм
Макс. диаметр вх/ вых пучка 
 12,5 мм
Точность смещения фокуса 
  ± 50 мкм
Точность M² 
  ± 3,5% RMS
Система профилирования лучей для автоматизированного производства
Бесконтактный профилометр для высокомощных лазеров BeamWatch
Бесконтактный профилометр для высокомощных лазеров BeamWatch Ophir
Диапазон длин волн
980-1080 нм
Мин. плотность мощности
2 МВт/см2 
Мин. размер пятна
 55 мкм (SP90390); 155 мкм (SP90391)
Максимальный диаметр пятна 
 12.5 мм
Связь с ПК 
 GigE
Бесконтактный профилометр для cdtj[мощных лазеров диапазона 980—1080 нм